[첨단 헬로티] KLA-Tencor가 세계적인 인사조직컨설팅회사인 에이온휴잇(AON Hewitt)이 수여하는 ‘2017 한국 최고의 직장(2017 Best Employers in Korea)’ 본상을 수상했다. KLA-Tencor 코리아는 이번에 직원몰입도, 고용브랜드, 리더십, 고성과 문화 등 최고의 직장 선정을 위한 주요 조사 항목에서 높은 평가를 받아 ‘한국 최고의 직장 본상’ 수상 기업으로 선정됐다. ▲2017 한국 최고의 직장 수상 기념 사진(왼쪽부터 심사위원장 한양대학교 전상길 교수, KLA-Tencor 코리아 정용식 대표, AON Hewitt Korea 권오성 대표 KLA-Tencor는 매년 직원몰입도조사(Employee Engagement Survey)를 실시해 직원들의 의견을 묻고, 여기서 수렴된 직원들의 의견 중 개선이 필요한 부분 대해서는 회사의 주요 성과 측정 지수에 반영한다. 이밖에도 매 분기마다 CEO가 직접 글로벌 전직원 회의(Global All Hands meeting)를 통해 회사의 주요 실적과 내용을 전 세계 모든 직원에게 설명할 뿐만 아니라 각 지사에서도 사업부 단위의 실적과 전략적
[첨단 헬로티] KLA-Tencor가 칩 제조업체에서 7nm 미만급 로직 및 선도적 메모리 설계 노드에 다중 패터닝 기술 및 EUV 노광을 적용할 때 필요한 엄격한 공정관리를 달성하는 데 도움이 되는 패터닝 관리 시스템 5종을 출시했다고 밝혔다. IC 제조업계에서는 ATL™ Overlay 계측 시스템과 SpectraFilm™ F1 박막 계측 시스템이 finFET, DRAM, 3D NAND 및 여타 여러 가지 최신 디바이스를 제조하면서 거쳐야 하는 여러 가지 공정과 모니터링 과정에 필요한 기술들을 제공한다. ▲KLA-Tencor의 7nm 미만급 IC 제조용 패터닝 관리 시스템 5종 Teron™ 640e 레티클 검사 제품군과 LMS IPRO7 레티클 등록 계측 시스템을 이용하면, 마스크숍에서의 EUV 및 고급 광학 레티클 개발과 인증에도 도움이 된다. 5D Analyzer® X1 고급 데이터 분석 시스템은 개방형 아키텍처 접근 방식의 토대를 이루어 제조 맞춤 분석과 실시간 공정 관리 애플리케이션을 지원한다. 이러한 5가지의 신형 시스템은 KLA-Tencor의 다채로운 계측, 검사 및 데이터 분석 시스템 포트폴리오를 한층 확
[헬로티] KLA-Tencor은 10nm 이하의 마스크 기술에 적용할 수 있는 3개의 레티클 검사 시스템인 Teron 640, Teron SL655 및 Reticle Decision Center(RDC)를 발표했다. 이들 세 시스템은 모두 현재 및 차세대 마스크 설계를 가능하게 하는 핵심 장비로서 마스크 작업과 IC 제조의 노광 공정에서 중대하고 심각하게 수율 손상을 일으키는 불량을 더욱 효과적으로 식별할 수 있도록 해준다. 회사에 따르면, Teron 640 검사 시스템은 이중 촬영(Dual Imaging) 기술을 활용함으로써, 마스크 작업에서 첨단 광학 마스크를 정밀하게 선별하는 데 필요한 감도를 제공한다. Teron SL655 검사 시스템은 투입되는 레티클 품질의 예비검사, 레티클 손상의 모니터링 및 수율에 심각한 영향을 주는 레티클 불량의 검출에서 IC 제조업체를 도울 새로운 STARlightGold를 도입했다. Teron 검사기가 검출한 종합적인 레티클 품질 측정치는 자동 불량품 폐기 결정을 도출하고, 공정주기를 개선하며 수율에 영향을 주는 레티클 관련 패턴 오류를 줄여주도록 폭넓은 일련의 기능을 제공하는 데이터 분석 및 관리 시스템인 RDC에 의해
[헬로티] KLA-Tencor Corporation은 IC 소자 제조용 6종의 웨이퍼 결함 검사 및 리뷰 시스템을 최근 공개했다. 여기에는 D30 및 D7(광대역 플라즈마 광학 검사기), Puma 6(레이저 스캐닝 검사기), CIRCL 5(표면 검사 클러스터), Surfscan SP5XP(비패턴 웨이퍼 검사기), eDR7280(전자빔 리뷰 및 분류 장비)가 포함된다. 이들 시스템은 다양한 신기술을 채용해 포괄적인 웨이퍼 검사 솔루션을 구현, 초기 공정 특성 규명부터 생산 공정 모니터링까지 IC 제조의 전단계에서 수율에 중대한 영향을 주는 결함을 발견하고 관리하도록 지원한다. ▲사진은 SP5XP. D30, D7, eDR7280은 중대한 결함의 검출 및 특성 규명을 통해 공정과 수율 개선을 주도하는 결함 발견 솔루션을 만들기 위해서 검사, 설계 및 리뷰 정보를 통합한다. 이 솔루션은 IC 제조업체에서 패턴 및 공정의 체계적인 결함 증식에 관련된 공정 허용 범위 발견 및 수율 손실과 같은 디자인 노드 과제를 해결하는 데 도움을 준다. 광대역 플라즈마 광학 검사기인 D30은 초해상도의 깊은 자외선(SR-DUV: Super Resolution Deep Ultra Vi
KLA-Tencor는 첨단 반도체 패키징 기술을 지원하기 위한 새로운 시스템 2종(CIRCL-AP™, ICOS® T830)을 발표했다. ICOS T830은 IC 패키지의 전자동 광학 검사 기능을 제공하고 2D 및 3D 측량의 고감도를 활용하여 광범위한 장치 종류 및 크기에 대한 최종 패키지 품질을 결정한다. 두 시스템 모두 혁신적인 패키징 기법이 적용돼 IC 제조업체 및 OSAT(Outsourced Semiconductor Assembly and Test) 시설에서 더욱 미세한 크기와 조밀한 피치 요구 사항 등의 문제를 해결하는 데 도움을 준다. KLA-Tencor의 Brian Trafas 마케팅 최고 담당자는 “소비자 모바일 전자 기술이 계속해서 더욱 작고, 빠른 디바이스의 생산을 주도하고 있다”며, “첨단 패키징 기술은 대역폭 증가이나 에너지 효율성 개선과 같은 디바이스의 성능상 이점을 제공한다. 그러나 패키징 생산 방법은 더욱 복잡하며, 화학적·기계적 평탄화나 고영상비 에칭과 같은 전형적인 프런트엔드 IC 제조 프로세스들을 구현하고 임시적인 본딩이나 웨이퍼 복원과 같은 고유한 프로세스 등을
KLA-Tencor Corporation은 Archer™ 500LCM과 SpectraFilm™ LD10이라는 첨단 계측 시스템 2종을 출시했다. 이들 제품은 16nm 이하급 IC의 개발과 생산을 지원한다. Archer 500LCM 오버레이 계측 시스템은 생산 과정의 전 단계에 걸쳐 정확한 오버레이 오류 피드백을 제공함으로써 칩메이커가 다중 패터닝, 스페이서 피치 스플리팅 등의 혁신적인 패터닝 기법을 적용할 때 발생하는 오버레이 문제를 해결하는 데 도움을 준다. SpectraFilm LD10 필름 계측 시스템은 높은 신뢰성과 정밀한 필름 두께 및 스트레스 계측을 통해 FinFET, 3D NAND 등 다양한 첨단 디바이스의 제조에 사용되는 필름 및 필름 스택의 검증과 모니터링을 지원한다. 이들 신제품은 KLA-Tencor의 고유한 5D™ 패터닝 제어 솔루션을 구성하는 핵심 제품이다. 5D 패터닝 제어 솔루션은 전체 공정을 특성화하고 모니터링하여 최적의 패터닝 결과를 이끌어내는 솔루션이다. KLA-Tencor의 Parametric Solutions Group 부사장인 아흐마드 칸(Ahmad Khan)은 "비파괴 광학 계측 업계를 대
상호명(명칭) : (주)첨단 | 등록번호 : 서울,자00420 | 등록일자 : 2013년05월15일 | 제호 :헬로티(helloT) | 발행인 : 이종춘 | 편집인 : 김진희 |
본점 : 서울시 마포구 양화로 127, 3층, 지점 : 경기도 파주시 심학산로 10, 3층 | 발행일자 : 2012년 4월1일 | 청소년보호책임자 : 김유활 | 대표이사 : 이준원 | 사업자등록번호 : 118-81-03520 | 전화 : 02-3142-4151 | 팩스 : 02-338-3453 | 통신판매번호 : 제 2013-서울마포-1032호
copyright(c) HelloT all right reserved
UPDATE: 2024년 05월 02일 10시 26분
